Render Studio 界面 - 图形区域
仅适用于
图形区域是场景视觉上的位置。它显示在 Render Studio 应用程序的中央,下图以红色轮廓框出:
Render Studio 中的视图导航与 Part Studio 和装配体中的视图导航有许多相同的特点。有关视图立方体导航和使用的信息,请参见视图导航和查看零件。
檢視工具
Render Studio 视图工具选项有:
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等轴测(shift+7) - 一种在 2 维度上直观地表示 3D 对象的方法。等轴测视图为模型或设计提供视觉深度。它是一种轴测投影,其中 3 个坐标轴以相同的方式缩短,其中任意两个坐标轴之间的角度均为 120 度。
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正二等轴测 - 表示或包含使用三个几何轴来显示投影或透视的一种方法,其中两个几何轴具有相同的比例或尺寸,但是第三个几何轴的比例或尺寸不同。
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正三轴测 - 一种投影方法,用于使三个主轴自查看平面进行不相等的倾斜来显示对象。
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命名视图 - 命名视图使用关联名称保存场景视图和视图设置。您可以根据需要创建任意数量的命名视图。保存后,您可以随时在这些命名视图之间切换。视图立方体位置以及“视图工具”菜单中的所有设置(“风格化”除外)都以命名视图保存。有关更多信息,请参阅创建和使用命名视图。
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缩放到合适大小(快捷键:f,()) - 缩放整个场景以适应视图。
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缩放至窗口比例 () - 选择此选项,然后创建环绕场景某一区域的界限框以放大该区域。或者,使用快捷键“w”,然后创建界限框(如下所示):
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景深 - 打开一个对话框以设置视图的景深,从而控制从清晰聚焦区域到模糊失焦区域的位置和距离:
“景深”选项包括:
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启用景深 - 打开场景的景深并访问对话框中的其他选项。仿真摄像机的景深。失焦区域会根据其与镜头的距离和镜头属性而变得模糊。
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F-数值 - 焦比或光圈数。焦距与镜头光圈孔径之比。值越小,景深越浅(焦外区域越模糊)。值越大,景深越窄(焦外区域越不模糊)。
虽然真实相机中的光圈数量遵循标准序列(f/1.4、f/2、f/2.8、f/4、f/5.6、f/8、f/11、f/16、f/22),但请输入介于 0.063 到 64 之间范围的任何值。
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光圈叶片 - 指定光圈叶片的数量,这会改变失焦区域中小而强烈的高光的形状。对于 0 到 2 之间的值,高亮显示为圆形。对于介于 2 和 20 之间的值,这将激活一个带有指定叶片数量的叶片形状光圈。例如,值为 5 会生成五角形状的高光,而值为 3 会生成三角形状的高光。
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光圈叶片旋转 - 仅当光圈叶片值大于 2 时可用。控制光圈叶片的旋转,同时旋转失焦高光的形状。该值以弧度输入。
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径向偏离值 - 控制镜头系统的偏离值。在 0.5 时,镜片会均匀处理。介于 0 和 0.5 之间的值会增加镜头边的重要性。使失焦高光的中心变暗。大于 0.5 的值也会增加镜头边的重要性,但会使失焦高光的中心变亮。
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对焦距离 - 指定与生成图像对焦的镜头之间的距离。远于或接近该距离的对象会逐渐失去焦点。
在焦距条目的右侧点击十字准线按钮 () 以选取对象的焦点,然后使用十字准线光标来单击场景中要设置为焦点的区域。
例如,在下面左图中,选择了零件的较大前端作为焦点,该前端即保持聚焦。当您朝后端移动时,背景会变得越来越模糊。在下面右图中则正好相反。选择了零件的较小后端作为焦点,背景的对焦更好。当您朝前端移动时,前景会变得越来越模糊:
在启用景深时,请确保不再会更改相机位置。如果在启用景深后调整相机位置,则需要重置焦点并重新评估焦距比数。
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关闭/打开透视 - 打开(默认)和关闭透视图。透视图显示从视点到模型的相对距离,并随着视点(或虚构的相机)靠近模型创建一个消失点。
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位置和旋转 () - 打开对话框以调整相机的位置 (X, Y, Z) 和旋转 (X, Y, Z) 的数字值。可用于精确匹配两个不同场景中的相机位置:
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视野 - 打开一个对话框以将视野指定为角度值,范围是从 1 到 179。数字越高,镜头角度越宽,消失点在视野中越远(沉入背景中)。数字越低,镜头角度越窄,消失点在视野中越近(在最前方)。只有在打开“透视”时,此选项才可用。
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色调映射 - 这些参数可调整场景光源,如“曝光”、“色调和对比度”、“渐晕”和其他高级属性。这些属性在物理上是准确的,可模拟数字相机摄影的方式:
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曝光 - 在“摄影曝光”(选择普通相机设置)或“简单曝光”(仅输入亮度值)之间进行选择。
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胶片 ISO - 胶片 ISO 值。值越高,相机对光线越敏感。值越低,则会使相机对光线越不敏感。当设置为零时,快门和光圈会处于禁用状态而无任何作用,并且所有亮度均由坎德拉因子控制。较高的 ISO 值同时会增加影像中的噪声和静态。这在摄影中很常见,可能是人们所希望取得的效果。
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光圈数 - 出于色调映射的目的,定义光圈或镜头开启大小的焦比或光圈数。此值不影响景深。在将“胶片 ISO”设置为 0 时,此值没有任何作用。光圈数值越小,镜头开启得越大。这样可让更多光线进入场景,从而使场景更为明亮。
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快门速度 - 在摄影中,快门速度是光圈保持开启以曝光胶片的时间长度。通过以分数秒数表示相机快门时间来定义“快门速度”参数,例如,值 100 定义 1/100 的相机快门速度。当“胶片 ISO”设置为 0 时,此值无任何影响。
增加该值会生成一个较小的分数值。而让较少的光线进入场景中,从而使得场景较暗。减小该值会生成一个较大的分数值,而让更多的光线进入场景中,从而使场景较亮。值为 0 时不允许任何光线进入镜头,会产生一个黑的场景。
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cd/m2因子 - 像素值与每平方米坎德拉之间的转换因子;场景中的发光强度单位。将“胶片 ISO”设置为零时,这会成为直接的乘数。
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曝光(简单曝光) - 场景的整体曝光度。较小的值或负值用于较暗的场景,而较大的正值用于较亮的场景。例如,-6 适用于没有月亮的夜间场景,而 15 适用于晴朗的日子。
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色调和对比度
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阴影 - 值越高,图像的阴影区域越暗。值越低,阴影区域显示的细节就越多。
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高光 - 值越高,图像的亮显区域越亮。较低的值会压缩亮显区域并降低其对比度。
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饱和度 - 压缩鲜艳颜色内在的组成会使其向较不饱和的颜色转变。有时,极强的压缩会使图像变为无吸引力的去饱和状态。通过饱和度参数,可以控制最终图像的饱和度。1.0 是标准未修改的饱和度。较高的值会增加饱和度,使颜色更丰富。较低的值会降低饱和度,从而淡化颜色。
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高光饱和度 - 控制亮显区域的饱和度,这些区域在去饱和度时往往看起来更逼真。但是,这也会改变亮显区域的颜色,严格说来这并不准确。增加饱和度可还原亮显区域的颜色。
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平衡 - 与输出图像中的白色相对应的颜色。这可以用来补偿照明效果。
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渐晕 - 在实际的相机中,光线到达胶片的角度会影响曝光,使图像的边缘变得较暗。“渐晕”可以模拟这种效果。请注意,相机的视野会影响渐晕的可见程度。“渐晕”对正交视图没有影响。
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强度 - 值为 0 时将看不到渐晕。值越高,边的周围越暗。 3 是一个良好的默认值,这类似于便携相机会生成的值。
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高级
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压缩变体 - 确定要使用哪种色调映射压缩算法: Reinhard、Uncharted 2 或 ACES unreal 4,以及 PBR neutral。
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Gamma - 应用显示 Gamma 修正。如果按原样显示图像,而不使用应用程序进行进一步处理,此值应设置为与显示的特征相符。否则,设置为 1 会禁用 Gamma 修正。
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剪裁 - 与相机的剪裁平面相关的参数:
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启用近端剪裁平面 - 启用后,相机与指定距离之间的物体不可见或可能被部分剪裁掉。
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距离 - 与相机的距离,在此距离前的物体不可见。
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背景 - 打开背景对话框。编辑以下参数:
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启用背景 - 用纯色或自定义图像替换背景环境。禁用后,使用环境库中的环境(默认环境为标准环境)。
纯色:
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颜色 - 显示用于背景的色板。单击铅笔图标可编辑颜色选择器中使用的颜色。可以通过单击颜色区域、输入十六进制颜色代码或 RGB 值,或者在选择器的底部选择样本来直观地选择颜色。
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反射背景 - 启用以允许用地面的反射代替环境的反射看到背景。
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折射背景 - 启用以允许透过完美镜面反射的非薄壁物体看到背景。
图像
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选择图像 - 打开“选择图像”对话框,从当前文档、其他文档中选择图像,或者从您的计算机导入图像。有关更多信息,请参见为场景添加自定义背景。
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缩放 - 如果背景图像之间的尺寸不同,则背景图像如何适应渲染图像的大小。选项有“填充”、“适应”或“拉伸”,
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重复(仅在“缩放”设置为“适应”时可用) - 启用后,如果背景未填满图像,则将在这些区域重复。禁用后,这些区域将使用您选择的纯色填充。当在反射中可见时,这也会影响背景,因此,如果禁用此选项,您可能会在背景的反射中看到纯色。
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色调映射 - 启用后,背景图像将经历与场景相同的色调映射;如果背景是高动态范围图像 (HDRI),则会很有用。
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景深 - 启用后,景深将应用于背景;如果尚未以这种方式拍摄,则可以使背景看起来失焦。
设置背景颜色或图像会覆盖图形区域的深色模式主题设置。
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照片级真实感 - 该模式在场景中为模型提供真实感的渲染。“照片级真实感”(默认)和“交互式”是互斥的,选择一个就会关闭另一个。除非有性能上的考量,否则建议对大多数场景使用“照片级真实感”。
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风格化 - 此模式生成场景中各部分的风格化渲染。请参见创建风格化渲染。
- 剖视图 - 在图形区域中零件的面或位置上创建剖视图平面和长度/角度操纵器。根据需要创建尽可能多的剖视图并阻挡每个视图的光线。请参阅创建剖视图。
命名视图使用关联名称保存场景视图和视图设置。您可以根据需要创建和保存尽可能多的命名视图。保存后,您可以随时在这些命名视图之间切换。视图立方体位置以及“视图工具”菜单中的所有设置(“风格化”除外)都以命名视图保存。
若要创建命名视图,请执行以下操作:
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将零件、Part Studio 或装配体带入 Render Studio。
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使用视图立方体更改场景视图,或更改任何视图工具设置(“风格化”除外)。
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根据需要设置模型后,在视图立方体下拉菜单下选择命名视图:
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命名视图对话框打开:
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在“新视图名称”输入框中提供名称。然后单击“添加视图”按钮 ():
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设置多个命名视图后,您可以使用下拉菜单从中进行选择:
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若要删除命名视图,请先从下拉菜单中选择该视图,然后单击“删除视图”按钮 ():
此模式生成场景中各部分的风格化渲染。“风格化”和“照片级真实感”(默认)是相互排斥的;选择其中一个会关闭另一个。当选中时,
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将零件、Part Studio 或装配体带入 Render Studio。
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在视图立方体下拉菜单下,选择“风格化”:。
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“风格化”对话框打开。
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从以下选项中选择:
- 渲染 - 从备用预设渲染选项中选择:彩色工程图、灰度工程图、白底黑字、黑底白字、平整阴影、平滑阴影和自定义。
选择“自定义”后,场景中的各个部分还有其他设置可用:
边颜色 - 场景中各部分周围绘制的轮廓的颜色。单击“编辑颜色”图标 () 打开“选择边颜色”对话框。通过单击颜色区域、输入十六进制或 RGB 值,或者通过在选择器底部选择一个色样来直观地选择颜色:
阴影 - 从“平滑阴影”、“平整阴影”或“渐变阴影”中进行选择。“平滑”提供平滑杂色照明的外观。“平整”为每个零件提供均匀的颜色。“渐变”提供了更像卡通的阶梯状外观。
层级 - 阴影带的数量。更多的层级提供更平滑的阴影,而较少的层级提供更像卡通的阶梯状外观。
替换外观 - 用单一颜色替换场景中所有零件的颜色。
- 渲染 - 从备用预设渲染选项中选择:彩色工程图、灰度工程图、白底黑字、黑底白字、平整阴影、平滑阴影和自定义。
剖视图允许在零件上选择一个位置,用于创建一个或多个剖面来分割场景中的图元。每个剖切平面都分割了整个场景。您无法对单个零件进行剖分。
剖视图是一个开启/关闭所有剖切平面的开关。切换之间会记住设置。
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将零件、Part Studio 或装配体带入 Render Studio。
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单击“视图工具”下拉菜单图标 (),然后选择“剖视图”。
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剖视图对话框打开,指示您在零件上选择面或位置。
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在图形区域中,单击模型上要显示剖视图的面或位置。
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将带有长度和旋转操纵器的平面放置在光标所在的位置。平面的原点位于选定面的中心。
如果单击并将原点拖动到新面上方,则原点定位器会捕捉到新面的中心。
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根据需要调整箭头操纵器以将剖面的长度向内移动,并/或调整旋转操纵器以改变平面的角度。
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或者,在调整长度或旋转操纵器时,会出现一个数值字段,允许您以数字方式输入旋转长度或角度。
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选中封口以在剖切平面上添加封口:
启用“封口”后,您可以单击“编辑”图标 () 来全局更改封口颜色(如下面第一张图片所示)。默认情况下,封口为白色。您也可以选中覆盖封口颜色,为每个剖视图分别创建封口颜色(如右下方所示)。
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如果您想阻挡影响该区域的光线,请选中“阻挡光线”。
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选择“剖切平面”输入框后,单击要创建更多剖切的任意其他面或位置。每个区域都可以单独启用或禁用“阻挡光线”选项:
一次只能调整一个剖切平面/操纵器。使用“剖切平面”输入框选择要调整的平面。“剖切平面”的字体为粗体,表示哪个平面有焦点。
在场景列表或图形区域中选择零件或表面时,其周围会放置一个黄色轮廓。右键单击该零件可打开包含以下选项的环境菜单:
全部显示 - 显示图形区域中的所有零件。
隐藏 [零件] () - 隐藏当前选定的零件。
隐藏选定零件 - 隐藏所有当前选定的零件。
隐藏其他零件 - 隐藏除当前选定零件之外的所有零件。
隐藏所有零件 - 隐藏图形区域中的所有零件,包括选中和未选中的零件。
隔离 - 仅当选择了一个或多个零件、Part Studio 或装配体时才可用(不适用于 Render Studio 或面图元)。当从图形区域环境菜单中选择“隔离”时,所有选定图元均可查看,所有其他图元都隐藏在图形区域中。
图形区域的中上方会显示一条横幅,表示您处于隔离模式。单击“完成”退出此模式。
隐藏 [面] () - 隐藏当前选定的面。
隐藏选定面 -隐藏所有当前选定的面。
隐藏其他面 - 隐藏除当前选定面之外的所有面。
隐藏所有面 - 隐藏图形区域中的所有面,包括选中和未选中的面。
重新加载页面或注销后,隐藏场景列表中的图元不会持续存在。重新加载页面或重新登录后,所有隐藏的图元都可见。
抑制/取消抑制[图元] - 隐藏图形区域中的一个或多个图元。抑制后,该图元在图形区域中不可见。除面之外的任何图元都可以被抑制。抑制有子代的图元会抑制所有子代。
当一个图元被抑制时,其名称将变为斜体,字体变暗,并且文本在场景列表中包含删除线。右键单击并选择“取消抑制”,将该图元切换回活动状态:
抑制后,任何相关的场景列表外观、变换和投影都不会从场景列表中移除。但是,它们在图形区域中不可见。
当一个图元被隐藏然后被抑制时,取消抑制它会使它再次可见。
选择其他 - 打开一个对话框,可以在其中选择光标下方的零件或面,因为它们被其他图元遮住而可能无法在图形区域中看到。有关更多信息,请参见选择其他。
- 缩放到合适大小(快捷键:f,()) - 缩放整个场景以适应视图。
缩放至窗口比例 () - 选择此选项,然后创建环绕场景某一区域的界限框以放大该区域。或者,使用快捷键“w”,然后创建界限框(如下所示):
- 从 [外观] 复制外观 () - 将光标下当前选定的外观复制到剪贴板。
将外观粘贴到图元 () - 将从剪贴板复制的外观粘贴到图形区域中的选定零件和面。如果任何选定的零件和面已经应用了外观,则这些外观将被粘贴的外观覆盖。
在场景列表中,如果目标外观之前未重命名,则使用源外观名称。如果之前对目标外观进行了重命名,则当源外观替换目标外观时,该名称将保留。
取消分配外观 -从选定图元中移除外观。
选择匹配实例 - 仅在插入的装配体下方的零件或子装配体中可用,这将选择该零件或子装配体的所有匹配实例。一种用途是用于阵列化零件,此选项选择所有阵列化零件实例。
最大化图标 () 位于图形区域的右下角,可最大化全屏显示图形区域并隐藏所有周围面板。再次单击该图标可减小图形区域的大小并显示周围的所有面板。
若要调整“场景列表”或“场景/外观/环境”面板的宽度或“外观/环境库”面板的高度,请将光标悬停在面板边缘上。当光标变成双面箭头时,单击并拖动以调整面板大小。
有关更多信息,请参见 Render Studio 示例和资源。