曲线阵列
按选择的顺序沿草图曲线(或一系列相邻曲线、实体零件上的边和线框零件上的边)仿制选定的零件、面或特征。通过添加或移除材料或者与路径上的零件相交来创建新零件或修改现有零件。在活动钣金操作期间,也可使用曲线阵列。
在“特征工具栏”中:
按选择的顺序沿草图曲线(或一系列相邻曲线、实体零件上的边和线框零件上的边)仿制选定的零件、面或特征。通过添加或移除材料或者与路径上的零件相交来创建新零件或修改现有零件。在活动钣金操作期间,也可使用曲线阵列。
The Curve pattern feature patterns parts, other parametric features, and faces equally spaced, along a curve. The curve may be defined with 2D sketch entities such as splines, arcs, or circles, as well as entities in 3D space such as 3D curves or part edges.
For best results, create the curve starting on the part, feature, or face to be patterned. The path may be defined with several entities, as long as they connect from endpoint to endpoint. The entity being patterned and the path must be defined before the Curve pattern feature is used.
Select the Curve pattern from the Feature toolbar, and then select the entity type to pattern: a Part, Feature, or Face.
Choose Part pattern to define the pattern with additional instances of existing parts. As a reminder, only one of each unique part is needed in the Part Studio. When several instances of a part are required in a design, instance the part in an Assembly. This ensures the Bill of Materials is correct. Use the Part pattern option only when working in a tooling-part workflow, or when patterning surfaces. These workflows are explained in a future lesson.
Choose Feature pattern to define the pattern with features from the Features list. Check Reapply features to regenerate the features for each instance. Typically, you use this option when you need to apply the original feature's defined end type to all the patterned instances. Patterns that reapply features result in longer regeneration times, and should only be used when necessary.
Choose Face pattern to define the pattern with selected faces. When working with parts, the selected faces to pattern must apply to the same part as the original face.
In this example, the Part pattern is selected. In the Path to pattern along field, pick the curve, edges, or sketch entities to pattern along. Next, input the Instance count. This value includes the original seed being patterned. Onshape selects Equal spacing to space the number of instances evenly along the entire length of the selected path.
Check Skip instances to skip specific pattern instances. This is helpful when encountering conflicting geometry or when specific instances should be excluded from the pattern. Onshape displays a white dot outlined in gray for each instance. You can skip an instance by selecting its respective dot or using a box selection to select multiple instances to skip. The skipped instances are indicated with a light blue outline.
Check Keep orientation to align the instances in the same orientation as the seed. If the original entity that was patterned changes in some way, the instances rebuild to reflect that change.
- 单击 。
- 选择阵列类型:
- 零件 - 阵列化单个零件
- 特征 - 阵列化列在特征列表中的一个或多个特定特征(拉伸、圆角、扫掠、草图等)。请注意,特征不适用于钣金;有关钣金的修改,请参见面阵列类型。
- 面 - 阵列化特定零件上的特定面
- 选择结果操作类型:
- 新建 - 创建新材料,从而产生新零件。
- 添加 - 创建新材料并将其添加到现有材料
- 移除 - 从现有材料上去除材料
- 相交 - 仅在几何图元重叠的地方保留材料
- 将焦点置于要阵列化的图元输入框中,选择要仿制到阵列中的图元。
选择“要加图案的面”时,创建选择对于选择相关面很有用。
- 将焦点设定在沿其进行阵列化的路径输入框中,然后选择要沿其放置仿制的阵列图元的草图曲线(或一系列相邻曲线、实体零件上的边和线框零件上的边)。
- 选择一个间距选项:
- 相等间距 - 沿曲线均匀分布请求的实例数量。
- 距离 - 设置每个实例的偏移间距
- (仅限距离间距)在距离输入框中输入要偏移每个实例的间距。
- 输入希望阵列包含的实例数量。
- 您可以使用的最小实例数为 1。
- 如果曲线的长度不足以支持您指定 距离 中的实例数量,则您将看到错误。您可以减少实例之间的偏移量、减少实例数量、切换到相等间距选项,或者选择一条较长的曲线。
- Select an orientation type:
- Tangent to curve - Instances are tangent to the selected curve.
- Normal to face - Instances are aligned parallel to the selected face.
- Locked - Selected instances are locked in place.
- (If Lock faces is selected) Select faces to lock.
- 选中“跳过实例”选项以指定要跳过的阵列实例:
- Click the instance's selection handle to add it to the list of instances to skip.
- 单击列表中实例旁边的 X 将其添加回 Part Studio。
- 单击“清除”从“要跳过的实例”列表中移除所有实例。
- (仅限特征阵列类型)选择“重新应用特征”可为每个实例(在实例计数中指定)重新生成特征,而不是简单地重新创建初始阵列实例。
- 单击 。
阵列化单个零件。
一个零件沿两条相邻的草图曲线阵列化 10 次,从而创建新材料:
如果没有选择“重新应用特征”,阵列化列在特征列表中的一个或多个特定特征(拉伸、圆角、扫掠、草图等),这样可实现更快、更轻量级的特征阵列化。这不适用于钣金。
在下面的例子中,初始拉伸是“直到下一个”(一直拉伸到曲面表面)。如果没有选择“重新应用特征”,阵列特征(拉伸和圆角)将从初始特征进行阵列化,而非重新生成,这样对于阵列的每个实例,“直到下一个”不会更新):
如果选择“重新应用特征”,则会阵列化列在特征列表中的一个或多个特定特征(拉伸、圆角、扫掠、草图等)。这不适用于钣金。
在下面的例子中,初始拉伸是“直到下一个”(一直拉伸到曲面表面)。如果选择“重新应用特征”,将为阵列的每个实例重新生成阵列化特征(拉伸和圆角),以便“直到下一个”应用至阵列的每个实例:
阵列化特定零件上的特定面。
一个面沿一条草图曲线阵列化 5 次,从现有材料中移除材料:
新建 - 创建新材料,从而产生新零件:
添加 - 创建材料并将其添加到现有材料(在本例中,选择了“全部合并”):
去除材料;选择要阵列化的零件,然后选择“移除”:
仅在几何图元重叠的地方保留材料。
之前:
之后:
- 阵列化特征时,您可以按任何顺序选择特征列表中的任何对象。无论选择顺序为何,特征都会按列在特征列表中的顺序应用。
- 如果选择特征列表中的某个阵列,您将阵列化该阵列,但不会阵列化种子。要将种子包括进来,也要选择种子。
- 阵列化布尔运算特征(布尔运算、分割等)时,还必须选择布尔运算应用于的特征。
- 创建特征阵列时,会应用特征的所有方面。例如,拉伸特征中的终止形态。(相比之下,面阵列无法识别这些类型的修改器。)
- 阵列完成后,您可以单独删除任何图元。
- 如果使用多条草图曲线(或者实体零件上的边或线框零件上的边)指引阵列的方向但未产生预期的结果,请尝试按不同的顺序选择草图曲线。
-
如果为特征阵列启用“重新应用特征”,则外部参考将在每个实例的基础上自动重生成。
在草图中,不会重新应用种子草图尺寸和对原点或默认平面的约束。您可以使用此行为来确定在模式中重新应用哪些维度或约束条件的范围:
- 您可以阵列标注尺寸或约束于原点或默认平面的草图特征,并选择不重新应用这些尺寸和约束。
- 在沿默认平面或原点重新应用特征时,您也可以沿默认平面或原点创建显式构造草图。
- 如果嵌合连接器是 Part Studio 中的零件阵列,则在插入 Part Studio 时,它们将全部添加到装配体中。如果将 Part Studio 插入装配体时看不到嵌合连接器,请确保将该零件列为嵌合连接器所有者图元。
- 轻点“曲线阵列”工具。
- 选择阵列类型:
- 零件 - 阵列化单个零件
- 特征 - 阵列化列在特征列表中的一个或多个特定特征(拉伸、圆角、扫掠、草图等)
- 面 - 阵列化特定零件上的特定面
- 选择结果实体操作类型:
- 新建 - 创建新材料,从而产生新零件。
- 添加 - 创建新材料并将其添加到现有材料
- 移除 - 从现有材料上去除材料
- 相交 - 仅在几何图元重叠的地方保留材料
- 将焦点置于要阵列化的图元输入框中,选择要仿制到阵列中的图元。
- 将焦点设置在沿其进行阵列化的路径输入框中,然后选择要沿其放置仿制的阵列图元的草图曲线(或一系列相邻曲线、实体上的边和线框体上的边)。
- Select a spacing type:
- 相等间距 - 沿曲线均匀分布请求的实例数量。
- 距离 - 设置每个实例的偏移间距
- (仅限距离间距)在距离输入框中输入要偏移每个实例的间距。
- 输入希望阵列包含的实例数量。
- 您可以使用的最小实例数为 1。
- 如果曲线的长度不足以支持您指定 距离 中的实例数量,则您将看到错误。您可以减少实例之间的偏移量、减少实例数量、切换到相等间距选项,或者选择一条较长的曲线。
- Select an orientation type:
- Tangent curve - Instances are tangent to the selected curve.
- Normal to face - Instances are aligned parallel to the selected face.
- Locked - Selected instances are locked in place.
- (可选)切换跳过实例并选择要跳过的实例。双击一个实例将其添加回 Part Studio。
- 轻按复选标记。
阵列化单个零件。
一个零件沿两条相邻的草图曲线阵列化 10 次,创建新材料。
阵列化特征列表中列出的一个或多个特定特征(拉伸、圆角、扫掠、草图等)。
一个拉伸特征沿两条相邻的草图曲线阵列化 15 次,添加到现有材料。
阵列化特定零件上的特定面。
一个面沿一条草图曲线阵列化 5 次,从现有材料中移除材料。
新建 - 创建新材料,从而产生新零件。
添加 - 创建材料并添加至现有材料中(在此实例中,选择的是全部合并)。
去除材料;选择要阵列化的零件,然后选择“移除”。
仅在几何图元重叠的地方保留材料。
之前:
之后:
- 阵列化特征时,您可以按任何顺序选择特征列表中的任何对象。无论选择顺序为何,特征都会按列在特征列表中的顺序应用。
- 如果选择特征列表中的某个阵列,您将阵列化该阵列,但不会阵列化种子。要将种子包括进来,也要选择种子。
- 阵列化布尔运算特征(布尔运算、分割等)时,还必须选择要应用布尔运算的特征。
- 创建特征阵列时,会应用特征的所有方面。例如,拉伸特征中的终止形态。(相比之下,面阵列无法识别这些类型的修改器。)
- 阵列完成后,您可以单独删除任何图元。
- 如果使用多条草图曲线(或者实体上的边或线框体上的边)指引阵列的方向但未产生预期的结果,请尝试按不同的顺序选择草图曲线。
- 如果为特征阵列启用“重新应用特征”,则外部参考将在每个实例的基础上自动重生成。在草图中,不会重新应用从种子草图到原点或默认平面的尺寸和约束。
- 轻点“曲线阵列”工具。
- 选择阵列类型:
- 零件 - 阵列化单个零件
- 特征 - 阵列化列在特征列表中的一个或多个特定特征(拉伸、圆角、扫掠、草图等)
- 面 - 阵列化特定零件上的特定面
- 选择结果实体操作类型:
- 新建 - 创建新材料,从而产生新零件。
- 添加 - 创建新材料并将其添加到现有材料
- 移除 - 从现有材料上去除材料
- 相交 - 仅在几何图元重叠的地方保留材料
- 将焦点置于要阵列化的图元输入框中,选择要仿制到阵列中的图元。
- 将焦点设置在沿其进行阵列化的路径输入框中,然后选择要沿其放置仿制的阵列图元的草图曲线(或一系列相邻曲线、实体上的边和线框体上的边)。
- 选择一个间距选项:
- 相等间距 - 沿曲线均匀分布请求的实例数量。
- 距离 - 设置每个实例的偏移间距
- (仅限距离间距)在距离输入框中输入要偏移每个实例的间距。
- 输入希望阵列包含的实例数量。
- 您可以使用的最小实例数为 1。
- 如果曲线的长度不足以支持您指定 距离 中的实例数量,则您将看到错误。您可以减少实例之间的偏移量、减少实例数量、切换到相等间距选项,或者选择一条较长的曲线。
- Select an orientation type:
- Tangent curve - Instances are tangent to the selected curve.
- Normal to face - Instances are aligned parallel to the selected face.
- Locked - Selected instances are locked in place.
- (可选)切换跳过实例并选择要跳过的实例。双击一个实例将其添加回 Part Studio。
- 轻按复选标记。
阵列化单个零件。
一个零件沿两条相邻的草图曲线阵列化 10 次,创建新材料。
阵列化特征列表中列出的一个或多个特定特征(拉伸、圆角、扫掠、草图等)。
一个拉伸特征沿两条相邻的草图曲线阵列化 15 次,添加到现有材料。
阵列化特定零件上的特定面。
一个面沿一条草图曲线阵列化 5 次,从现有材料中移除材料。
新建 - 创建新材料,从而产生新零件。
添加 - 创建材料并添加至现有材料中(在此实例中,选择的是全部合并)。
去除材料;选择要阵列化的零件,然后选择“移除”。
仅在几何图元重叠的地方保留材料。
之前:
之后:
- 阵列化特征时,您可以按任何顺序选择特征列表中的任何对象。无论选择顺序为何,特征都会按列在特征列表中的顺序应用。
- 如果选择特征列表中的某个阵列,您将阵列化该阵列,但不会阵列化种子。要将种子包括进来,也要选择种子。
- 阵列化布尔运算特征(布尔运算、分割等)时,还必须选择要应用布尔运算的特征。
- 创建特征阵列时,会应用特征的所有方面。例如,拉伸特征中的终止形态。(相比之下,面阵列无法识别这些类型的修改器。)
- 阵列完成后,您可以单独删除任何图元。
- 如果使用多条草图曲线(或者实体上的边或线框体上的边)指引阵列的方向但未产生预期的结果,请尝试按不同的顺序选择草图曲线。
- 如果为特征阵列启用“重新应用特征”,则外部参考将在每个实例的基础上自动重生成。在草图中,不会重新应用从种子草图到原点或默认平面的尺寸和约束。